0371-5536 5392 0371-5519 9322
-
雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀 雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發，雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀兩個300W射頻電源，射頻電源可用于非金屬薄膜的制備，兩個...
-
雙靶磁控濺射鍍膜儀(DC&... 雙靶磁控濺射鍍膜儀(DC&RF)是我公司自主研發的一款高性價比真空實驗室PVD鍍膜設備，雙靶磁控濺射鍍膜儀(DC&RF)...
-
雙靶磁控濺射鍍膜儀（雙膜厚... 雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英...
-
三靶直流磁控濺射鍍膜儀 三靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。三靶直流磁控濺...
-
三靶射頻磁控濺射鍍膜儀 三靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比真空PVD鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。三靶射頻磁控...
-
三靶磁控濺射鍍膜儀（DC&... 三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英...
-
靶下置型雙靶DCRF磁控濺... 靶下置型雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀的采用靶下置布局，樣品臺在上方，靶下置型雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀配有直流和射頻雙電源...
-
往復樣品臺雙靶DCRF磁控... 往復樣品臺雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀我公司研發的配有兩個靶位的實驗室專用鍍膜儀，往復樣品臺雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀采用...