本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快溫升低等特點

單靶磁控鍍膜儀技術參數：

桌面型單靶磁控鍍膜儀
樣品臺	尺寸	φ100mm
	加熱	*高500℃
	轉速	0-20可調
磁控濺射靶	數量	2” x1
真空腔體	腔體尺寸	φ180mm X 215mm
	觀察窗口	全向透明
	腔體材料	高純石英
	開啟方式	上蓋拆卸式
真空系統	機械泵	旋片泵
	分子泵	渦輪分子泵
	真空測量	電阻規+電離規
	抽氣接口	KF16
	抽氣接口	KF40
	排氣接口	KF16
	極限真空	1.0E-4Pa
	供電電源	AC 220V 50/60Hz
	抽氣速率	機械泵1.1L/s  分子泵600L/s
電源配置	數量	直流電源 x1
	*大輸出功率	直流電源150W
其他	供電電壓	AC220V,50Hz
	整機功率	2kW
	整機尺寸	550mm X 350mm X400mm