0371-5536 5392 0371-5519 9322
-
小型雙靶磁控濺射鍍膜儀 小型雙靶磁控濺射鍍膜儀設備配有一個直流電源一個射頻電源，直流靶可用于金屬及其他導電材料的濺射，射頻電源可用于各種非金屬和...
-
帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀 帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜，該帶偏壓...
-
UPS三靶磁控濺射真空鍍膜... UPS三靶磁控濺射鍍膜儀體積小，操作簡便，是實驗室制備材料膜的理想鍍膜設備，UPS三靶磁控濺射鍍膜儀采用UPS16節(jié)電池...
-
500W RF 500W ... 500W RF 500W DC三靶磁控濺射鍍膜儀是高速低溫濺射鍍膜儀,該500W RF 500W DC三靶磁控濺射鍍膜儀...
-
桌面型雙靶直流磁控濺射鍍膜... 桌面型雙靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公自主研發(fā)的一款高性價比真空PVD鍍膜設備。桌面型雙靶直流磁控濺射鍍膜儀用于金屬薄膜的制...
-
單靶直流磁控濺射鍍膜儀 單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的真空鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。該單靶直流磁控濺射鍍膜儀 15...
-
單靶射頻磁控濺射鍍膜儀 單靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，單靶射頻磁控濺射鍍膜儀可用于非金屬膜、光學膜的濺射...
-
雙靶直流磁控濺射鍍膜儀 雙靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比真空PVD鍍膜設備，雙靶直流磁控濺射鍍膜儀設置兩個500W直流電源，...