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PLD脈沖激光濺射沉積設備 該PLD脈沖激光濺射沉積設備系列設備主要用于生長光學晶體、鐵電體、鐵磁體、超導體和有機化合物薄膜材料，尤其適用于生長高熔...
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帶手套箱三源蒸發鍍膜儀 鍍膜設備以金屬/有機源蒸發為主體，適用于實驗室制備金屬單質、氧化物、介電質、半導體膜
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三靶磁控濺射鍍膜儀 TN-600-3HD三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研制開發的一款性價比較高的磁控濺射鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜...
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單靶磁控濺射鍍膜儀 本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。...
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高真空雙源熱蒸發鍍膜儀 高真空雙源熱蒸發鍍膜儀適用于蒸發涂覆大多數金屬和某些有機材料薄膜
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高真空雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛...
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電子束蒸發鍍膜儀 電子束蒸發鍍膜儀以電子束蒸發方式鍍膜設備，主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡...
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5英寸近距離蒸發鍍膜爐不銹... 近距離有機物蒸發鍍膜爐是一種雙加熱區快速熱處理爐,它是研究新一代太陽能電池薄膜的主要工具，如CdTe、硫化物和鈣鈦礦太陽...